论文目录 | |
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 单层过渡金属硫属化物简介 | 第12-13页 |
| 1.2 TMDC材料的性质 | 第13-16页 |
| 1.2.1 TMDC的晶体结构 | 第13页 |
| 1.2.2 TMDC的电子结构 | 第13-14页 |
| 1.2.3 TMDC的光电性质 | 第14-16页 |
| 1.3 WS_2的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4 WS_2的研究进展及应用 | 第17-20页 |
| 1.5 过渡金属硼化物简介 | 第20-21页 |
| 1.6 WB_x材料的性质 | 第21-22页 |
| 1.6.1 W_2B和WB | 第21页 |
| 1.6.2 WB_2和W_2B_5 | 第21-22页 |
| 1.6.3 WB_4 | 第22页 |
| 1.7 WB_x的制备方法 | 第22-23页 |
| 1.8 WB_x的研究进展 | 第23-24页 |
| 1.9 本论文的选题依据 | 第24-26页 |
| 第2章 制备技术及性能表征方法 | 第26-35页 |
| 2.1 化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition） | 第26-27页 |
| 2.2 机械合金化（Mechanical Alloying） | 第27-28页 |
| 2.3 性能表征方法 | 第28-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射（X-ray Diffraction） | 第28-30页 |
| 2.3.2 拉曼光谱（Raman Spectroscopy） | 第30-31页 |
| 2.3.3 光致发光谱（Photoluminescence Spectroscopy） | 第31-32页 |
| 2.3.4 场发射扫描电子显微镜（Field Emission ScanningElectron Microscopy） | 第32-33页 |
| 2.3.5 透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope） | 第33-35页 |
| 第3章 化学气相沉积制备单层WS_2的研究 | 第35-46页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验过程 | 第36-37页 |
| 3.3 结果讨论 | 第37-45页 |
| 3.3.1 WS_2材料的拉曼光谱分析 | 第37-39页 |
| 3.3.2 WO_3的量对WS_2晶体维度的影响 | 第39-42页 |
| 3.3.3 沉积温度对WS_2晶体维度的影响 | 第42-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 球磨法制备钨硼体系非晶合金及相关固溶体 | 第46-58页 |
| 4.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.2 实验过程 | 第47页 |
| 4.3 结果讨论 | 第47-57页 |
| 4.3.1 钨硼碳非晶合金的制备研究 | 第47-51页 |
| 4.3.2 钨硼碳固溶体的制备研究 | 第51-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 全文总结与研究展望 | 第58-60页 |
| 5.1 全文总结 | 第58-59页 |
| 5.2 研究展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
