钇铟共掺杂氧化锌薄膜特性的研究 |
论文目录 | | | 摘要 | 第11-12页 | | ABSTRACT | 第12-14页 | | 符号说明 | 第14-15页 | | 第1章 绪论 | 第15-24页 | | 1.1 YIZO透明导电薄膜的研究背景 | 第15-16页 | | 1.2 YIZO薄膜的研究现状 | 第16-17页 | | 1.3 YIZO薄膜的性质 | 第17-22页 | | 1.3.1 YIZO薄膜的结构特性 | 第17-18页 | | 1.3.2 YIZO薄膜的光学特性 | 第18-20页 | | 1.3.3 YIZO薄膜的电学特性 | 第20-22页 | | 1.4 YIZO薄膜的研究目的及意义 | 第22-24页 | | 第2章 薄膜的制备及其表征 | 第24-33页 | | 2.1 薄膜的制备方法及其原理 | 第24-27页 | | 2.1.1 溶胶-凝胶法 | 第24页 | | 2.1.2 磁控溅射法 | 第24-26页 | | 2.1.3 电化学沉积法 | 第26页 | | 2.1.4 真空蒸发镀膜法 | 第26-27页 | | 2.2 薄膜的表征方法及原理 | 第27-33页 | | 2.2.1 薄膜结构特性的分析 | 第27-28页 | | 2.2.2 薄膜表面形貌的分析 | 第28-31页 | | 2.2.3 薄膜光学特性的分析 | 第31-32页 | | 2.2.4 薄膜电学特性的分析 | 第32-33页 | | 第3章 YIZO透明导电薄膜的制备 | 第33-35页 | | 3.1 衬底的选择和清洗 | 第33页 | | 3.2 YIZO薄膜的制备 | 第33-35页 | | 第4章 YIZO透明导电薄膜性质的研究 | 第35-52页 | | 4.1 溅射功率对YIZO薄膜性质的影响 | 第35-39页 | | 4.1.1 溅射功率对YIZO薄膜厚度的影响 | 第35-36页 | | 4.1.2 溅射功率对YIZO薄膜结构特性的影响 | 第36-37页 | | 4.1.3 溅射功率对YIZO薄膜表面形貌的影响 | 第37页 | | 4.1.4 溅射功率对YIZO薄膜光学特性的影响 | 第37-38页 | | 4.1.5 溅射功率对YIZO薄膜电学特性的影响 | 第38-39页 | | 4.2 溅射时间YIZO薄膜性质的影响 | 第39-43页 | | 4.2.1 溅射时间对YIZO薄膜厚度的影响 | 第39-40页 | | 4.2.2 溅射时间对YIZO薄膜结构特性的影响 | 第40-41页 | | 4.2.3 溅射时间对YIZO薄膜表面形貌的影响 | 第41页 | | 4.2.4 溅射时间对YIZO薄膜光学特性的影响 | 第41-43页 | | 4.2.5 溅射时间对YIZO薄膜电学特性的影响 | 第43页 | | 4.3 溅射气压对YIZO薄膜性质的影响 | 第43-48页 | | 4.3.1 溅射气压对YIZO薄膜厚度的影响 | 第44-45页 | | 4.3.2 溅射气压对YIZO薄膜结构特性的影响 | 第45-46页 | | 4.3.3 溅射气压对YIZO薄膜表面形貌的影响 | 第46页 | | 4.3.4 溅射气压对YIZO薄膜光学特性的影响 | 第46-47页 | | 4.3.5 溅射气压对YIZO薄膜电学特性的影响 | 第47-48页 | | 4.4 氧分压对YIZO薄膜性质的影响 | 第48-51页 | | 4.4.1 氧分压对YIZO薄膜结构特性的影响 | 第48-49页 | | 4.4.2 氧分压对YIZO薄膜表面形貌的影响 | 第49-50页 | | 4.4.3 氧分压对YIZO薄膜光学特性的影响 | 第50-51页 | | 4.5 本章小结 | 第51-52页 | | 第5章 YIZO薄膜晶体管的制备与性能的研究 | 第52-66页 | | 5.1 薄膜晶体管的分类 | 第52-53页 | | 5.2 薄膜晶体管的基本结构 | 第53-54页 | | 5.3 薄膜晶体管的工作原理 | 第54-56页 | | 5.4 薄膜晶体管的重要参数 | 第56-57页 | | 5.5 YIZO薄膜晶体管的研究背景及现状 | 第57-59页 | | 5.6 YIZO薄膜晶体管的制备 | 第59-61页 | | 5.7 YIZO薄膜晶体管的特性研究 | 第61-65页 | | 5.8 本章小结 | 第65-66页 | | 第6章 结论 | 第66-68页 | | 6.1 YIZO透明导电薄膜 | 第66页 | | 6.2 YIZO薄膜晶体管 | 第66-68页 | | 参考文献 | 第68-72页 | | 致谢 | 第72-73页 | | 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 | | 附件 | 第74页 |
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