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LDMOS功率管金属电极结构及工艺设计与实现

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LDMOS功率管金属电极结构及工艺设计与实现
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-12页
第一章 绪论第12-16页
  1.1 论文背景与意义第12-13页
  1.2 国内外研究现状第13-14页
  1.3 研究内容与设计指标第14页
  1.4 论文组织第14-16页
第二章 LDMOS功率管电极结构原理设计第16-21页
  2.1 溅射工艺原理第16-18页
  2.2 电极结构工艺设计第18-19页
  2.3 电极结构仿真设计第19页
  2.4 电极结构参数第19-20页
  2.5 小结第20-21页
第三章 LDMOS功率管电极工艺设计第21-52页
  3.1 欧姆接触层工艺设计第21-30页
  3.2 黏附层工艺设计第30-32页
  3.3 阻挡层工艺设计第32-41页
  3.4 导电层工艺设计第41-43页
  3.5 双层金属布线工艺设计第43-51页
  3.6 小结第51-52页
第四章 实验结果及讨论第52-63页
  4.1 LDMOS功率芯片版图第52页
  4.2 LDMOS芯片流程框图第52-53页
  4.3 实验结果与讨论第53-62页
  4.4 小结第62-63页
第五章 总结与展望第63-65页
  5.1 总结第63页
  5.2 展望第63-65页
参考文献第65-68页
致谢第68页

本篇论文共68页,点击这进入下载页面
 
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