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RF磁控溅射ZnO薄膜和掺钛ZnO薄膜材料制备及特性研究

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RF磁控溅射ZnO薄膜和掺钛ZnO薄膜材料制备及特性研究
论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-21页
  1.1 ZnO晶体结构与性质第11-14页
    1.1.1 ZnO晶体结构第11-12页
    1.1.2 ZnO能带结构第12-13页
    1.1.3 ZnO电学性质第13页
    1.1.4 ZnO光学特性第13页
    1.1.5 ZnO压电特性第13-14页
    1.1.6 ZnO气敏特性第14页
  1.2 ZnO的应用第14-16页
    1.2.1 光电领域第14-15页
    1.2.2 压电及声表面波器件第15页
    1.2.3 气敏元件第15页
    1.2.4 其它应用第15-16页
  1.3 ZnO材料的研究进展及现状第16-18页
    1.3.1 ZnO薄膜外延生长研究第16页
    1.3.2 ZnO纳米结构研究第16-17页
    1.3.3 p型ZnO薄膜研究第17-18页
    1.3.4 掺杂对ZnO薄膜的多种特性进行进一步改善研究第18页
  1.4 本课题的立题依据、研究内容、创新点第18-21页
    1.4.1 本课题立题依据第18-19页
    1.4.2 本课题主要研究内容第19页
    1.4.3 本课题创新点第19-21页
第二章 ZnO薄膜的制备技术与表征第21-27页
  2.1 常用的制备技术介绍第21-24页
    2.1.1 磁控溅射法第21-23页
    2.1.2 分子束外延法(MBE)第23页
    2.1.3 脉冲激光溅射沉积法(PLD)第23页
    2.1.4 化学气相淀积法(CVD)第23-24页
    2.1.5 溶胶一凝胶法第24页
  2.2 常用的表征方法介绍第24-27页
    2.2.1 X射线衍射仪 (XRD)第24-25页
    2.2.2 原子力显微镜第25-26页
    2.2.3 紫外可见光分光光度计(UV-vis spectrophotometer)第26页
    2.2.4 光致发光谱(PL)第26-27页
第三章 磁控溅射法制备ZnO薄膜及其微观结构与光学特性研究第27-62页
  3.1 引言第27页
  3.2 实验样品ZnO膜的生长第27-29页
    3.2.1 衬底清洗准备第27-28页
    3.2.2 磁控溅射简易实验过程第28-29页
  3.3 氩氧比对ZnO薄膜的光学特性影响第29-35页
    3.3.1 XRD分析第29-31页
    3.3.2 吸收光谱(Abs)与透射率(T%)第31-33页
    3.3.3 光致发光光谱(PL)第33-35页
  3.4 溅射功率对ZnO薄膜的光学特性影响第35-40页
    3.4.1 XRD分析第35-36页
    3.4.2 吸收光谱(Abs)与透射谱(T%)第36-38页
    3.4.3 光致发光光谱(PL)第38-40页
  3.5 溅射时间对ZnO薄膜的光学特性影响第40-57页
    3.5.1 简单溅射时间变化对ZnO薄膜光学特性的影响研究第40-43页
    3.5.2 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究(FTO)第43-47页
    3.5.3 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究(蓝宝石)第47-52页
    3.5.4 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究(N型Si衬底)第52-54页
    3.5.5 在低功率下精细溅射时间变化对ZnO薄膜的特性影响研究(P型Si衬底)第54-57页
  3.6 样品衬底类别对ZnO薄膜的光学特性影响第57-60页
    3.6.1 XRD比较分析第58-59页
    3.6.2 光致发光(PL)比较分析第59-60页
  3.7 本章小结第60-62页
第四章 Ti重掺杂ZnO薄膜制备及其微观结构与光学特性研究第62-70页
  4.1 引言第62页
  4.2 衬底种类对掺Ti氧化锌薄膜的微观结构与光学特性影响第62-64页
    4.2.1 XRD分析第62-63页
    4.2.2 光致发光(PL)第63-64页
  4.3 重Ti掺杂溅射功率比对掺Ti氧化锌薄膜的微观结构与光学特性影响第64-68页
    4.3.1 XRD分析第65-66页
    4.3.2 紫外可见吸收光谱(Abs)第66-68页
    4.3.3 光致发光(PL)第68页
  4.4 本章小结第68-70页
第五章 结论第70-72页
参考文献第72-78页
硕士期间发表论文第78-79页
致谢第79页

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