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InP基光子集成器件的二次外延生长

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InP基光子集成器件的二次外延生长
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-16页
  1.1 光电集成概念第9-10页
  1.2 有源器件与无源器件的集成第10-14页
  1.3 本文主要研究内容第14-16页
2 MOCVD外延生长与测试技术第16-31页
  2.1 MOCVD外延技术第16-19页
  2.2 MOCVD设备的组成第19-23页
  2.3 外延材料测试技术第23-30页
  2.4 本章小结第30-31页
3 光子集成器件各外延层生长第31-41页
  3.1 可调谐波长转换器的组成第31-32页
  3.2 P-InP外延生长第32-33页
  3.3 InGaAsP层外延生长第33-35页
  3.4 P~+-InGaAs外延生长第35-38页
  3.5 全结构生长第38-40页
  3.6 本章小结第40-41页
4 二次外延生长第41-49页
  4.1 二次外延生长前的样品刻蚀和表面处理第41-43页
  4.2 芯片清洗第43-45页
  4.3 二次外延生长第45-48页
  4.4 本章小结第48-49页
5 总结与展望第49-51页
致谢第51-52页
参考文献第52-57页
附录 攻读硕士学位期间发表论文第57页

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