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氮化铌薄膜及其纳米线超导性能研究
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氮化铌薄膜及其纳米线超导性能研究
论文目录
 
中文摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 引言第11-25页
　　1.1 超导材料的介绍第11-13页
　　1.2 NbN的晶体结构和基本特性第13-16页
　　1.3 NbN薄膜的研究现状第16-18页
　　1.4 NbN薄膜的制备方法第18-23页
　　　　1.4.1 磁控溅射法（Magnetron Sputtering）第18-22页
　　　　1.4.2 脉冲激光沉积（PLD-Pulsed Laser Deposition）第22-23页
　　1.5 研究内容和意义第23-25页
　　　　1.5.1 本文的总体思路和框架第23页
　　　　1.5.2 本文主要研究内容和目标第23-24页
　　　　1.5.3 本文的研究意义第24-25页
第二章 薄膜的制备技术和表征方法第25-36页
　　2.1 磁控溅射技术第25-27页
　　2.2 聚合物辅助沉积法第27-32页
　　　　2.2.1 聚合物辅助沉积方法简介第27-30页
　　　　2.2.2 聚合物辅助沉积方法的设备第30-32页
　　2.3 薄膜样品的表征方法第32-36页
　　　　2.3.1 X射线衍射（XRD）第32-33页
　　　　2.3.2 原子力显微镜（AFM）第33-34页
　　　　2.3.3 场发射扫描电子显微镜（FESEM）第34-35页
　　　　2.3.4 综合物性测量系统（PPMS）第35-36页
第三章 NbN薄膜的制备及其性质分析第36-53页
　　3.1 PAD法生长NbN薄膜第36-40页
　　　　3.1.1 实验材料第36页
　　　　3.1.2 前驱体配制第36页
　　　　3.1.3 旋涂法镀膜第36-37页
　　　　3.1.4 管式炉退火处理第37页
　　　　3.1.5 NbN薄膜的性质分析第37页
　　　　3.1.6 NbN粉体的制备第37-38页
　　　　3.1.7 NbN薄膜的制备第38-40页
　　3.2 PAD法生长其他薄膜的尝试第40-44页
　　　　3.2.1 实验的材料第40-41页
　　　　3.2.2 薄膜的制备第41页
　　　　3.2.3 碳膜的性质分析第41-44页
　　3.3 直流磁控溅射第44-53页
　　　　3.3.1 实验的材料第44页
　　　　3.3.2 实验的步骤第44-46页
　　　　3.3.3 反应直流磁控溅射“过渡模式”研究第46-48页
　　　　3.3.4 背底真空度对薄膜性能的影响第48页
　　　　3.3.5 溅射功率对超导转变温度的影响第48-49页
　　　　3.3.6 氮氩比对超导转变温度的影响第49-50页
　　　　3.3.7 工作总压对超导转变温度的影响第50-51页
　　　　3.3.8 超薄NbN薄膜的制备第51-53页
第四章 迂回纳米线的刻蚀及卷管阵列的探索第53-61页
　　4.1 超导迂回纳米线刻蚀第53-58页
　　4.2 超导卷管阵列的探索第58-61页
第五章 总结与展望第61-64页
　　5.1 全文总结第61-62页
　　5.2 展望第62-64页
参考文献第64-71页
攻读硕士学位期间的学术成果第71-73页
致谢第73-74页

本篇论文共74页，点击这进入下载页面。
 
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