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二维MoS2的掺杂调制和热电性质的研究
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二维MoS2的掺杂调制和热电性质的研究
论文目录
 
摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-17页
　　1.1 二维材料的研究背景与进展第8-9页
　　1.2 层状过渡金属二硫化物的概述第9-11页
　　1.3 单层MOS_2的结构和性质第11-12页
　　1.4 单层MOS_2的研究现状第12-14页
　　1.5 单层MOS_2的热电性质第14-16页
　　1.6 本论文的结构安排第16-17页
第二章 计算方法及理论第17-26页
　　2.1 密度泛函理论第17-19页
　　2.2 交换关联泛函第19-20页
　　2.3 赝势第20-21页
　　2.4 热电输运性质第21-23页
　　2.5 本文所使用的软件程序包第23-25页
　　2.6 本章小结第25-26页
第三章 单层MOS_2掺杂氢原子的第一性原理研究第26-40页
　　3.1 单层MOS_2的几何结构和电子结构第26-29页
　　　　3.1.1 单层MOS_2的收敛测试和几何结构优化第26-28页
　　　　3.1.2 单层MOS_2的电子结构第28-29页
　　3.2 单层MOS_2掺杂氢原子的稳定性和几何结构第29-34页
　　3.3 单层MOS_2掺杂氢原子的电子结构第34-39页
　　3.4 本章小结第39-40页
第四章 单层MOS_2热电性质的第一性原理研究第40-44页
　　4.1 单层MOS_2的声子谱第40-41页
　　4.2 单层MOS_2的热电性质第41-43页
　　4.4 本章小结第43-44页
第五章 总结与展望第44-46页
参考文献第46-55页
致谢第55-56页
攻读硕士期间发表论文情况第56页

本篇论文共56页，点击这进入下载页面。
 
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