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基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究

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基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第一章 绪论第11-19页
  1.1 本课题的研究背景第11-12页
  1.2 光刻技术介绍第12-16页
    1.2.1 有掩模光刻第13-14页
    1.2.2 无掩模光刻第14-16页
  1.3 光刻光源介绍第16-17页
  1.4 本文研究内容第17-19页
第二章 DMD的特性研究第19-26页
  2.1 DMD简介第19-21页
    2.1.1 DMD的发展历程第19页
    2.1.2 DMD的构造和原理第19-21页
  2.2 DMD的灰度特性第21-23页
  2.3 DMD的结构特性第23页
  2.4 DMD的光学特性第23-25页
    2.4.1 DMD的衍射特性第23-24页
    2.4.2 DMD的反射特性第24-25页
  2.5 本章小结第25-26页
第三章 照明系统的研究第26-37页
  3.1 常用光刻光源系统第26-29页
    3.1.1 高压汞灯第26-27页
    3.1.2 紫外激光器第27-28页
    3.1.3 UV-LED第28-29页
  3.2 UV-LED物理特性的研究第29-32页
    3.2.1 UV-LED的电学特性第29-31页
    3.2.2 UV-LED的光学特性第31页
    3.2.3 UV-LED的热学特性第31-32页
  3.3 常用准直光路第32-33页
  3.4 常用匀光单元第33-35页
  3.5 光刻系统中照明系统关键技术参数第35-36页
    3.5.1 照明系统的像差第35页
    3.5.2 照明系统出射光的均匀度第35-36页
    3.5.3 照明系统与投影系统的匹配第36页
  3.6 本章小结第36-37页
第四章 照明系统的设计与仿真第37-42页
  4.1 LED光源的特性第37页
  4.2 基于复眼透镜的照明系统匀光设计第37-38页
  4.3 模拟仿真与分析第38-41页
  4.4 本章小结第41-42页
第五章 投影镜头的匹配与光刻实验第42-48页
  5.1 设计要求第42-43页
    5.1.1 数字光刻设计特点第42页
    5.1.2 光学材料选取第42页
    5.1.3 系统结构第42-43页
    5.1.4 像差校正第43页
  5.2 投影镜头的设计与结果第43-46页
  5.3 光刻实验第46-47页
  5.4 本章小结第47-48页
总结与展望第48-50页
参考文献第50-54页
攻读学位期间发表的论文及申请的专利第54-57页
致谢第57页

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