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能量过滤磁控溅射技术过滤电极结构对薄膜性能影响的研究
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能量过滤磁控溅射技术过滤电极结构对薄膜性能影响的研究
论文目录
摘要
第1-6页
Abstract
第6-10页
1 绪论
第10-26页
1.1 引言
第10页
1.2 物理气相沉积
第10-13页
1.2.1 真空蒸发技术
第11-12页
1.2.2 分子束外延
第12页
1.2.3 溅射镀膜
第12-13页
1.3 磁控溅射技术
第13-20页
1.3.1 多靶共溅射
第16页
1.3.2 反应溅射
第16-18页
1.3.3 射频溅射
第18-19页
1.3.4 中频溅射和脉冲溅射
第19页
1.3.5 高速溅射和自溅射
第19-20页
1.3.6 离子束溅射
第20页
1.4 直流磁控溅射及能量过滤直流磁控溅射设备
第20-21页
1.5 本课题的研究内容及选题意义
第21-26页
2 过滤电极网孔大小对TiO_2薄膜特性的影响
第26-36页
2.1 TiO_2薄膜的制备
第26-28页
2.2 结果与分析
第28-35页
2.3 小结
第35-36页
3 过滤电极网孔大小对ITO薄膜特性的影响
第36-45页
3.1 ITO薄膜的制备
第36-37页
3.2 实验结果分析
第37-44页
3.3 小结
第44-45页
4 过滤电极网孔大小对ZnO薄膜特性的影响
第45-52页
4.1 ZnO薄膜的制备
第45-46页
4.2 结果与分析
第46-51页
4.3 小结
第51-52页
5 能量过滤磁控溅射技术制备TiO_2薄膜光学性能的均一性研究
第52-60页
5.1 TiO_2薄膜的制备
第52-53页
5.2 结果与分析
第53-58页
5.3 结论
第58-60页
6 结论与展望
第60-62页
6.1 结论
第60-61页
6.2 展望
第61-62页
参考文献
第62-66页
致谢
第66-67页
个人简历
第67页
本篇论文共
67
页,
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。
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