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能量过滤磁控溅射技术过滤电极结构对薄膜性能影响的研究

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能量过滤磁控溅射技术过滤电极结构对薄膜性能影响的研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-10页
1 绪论第10-26页
  1.1 引言第10页
  1.2 物理气相沉积第10-13页
    1.2.1 真空蒸发技术第11-12页
    1.2.2 分子束外延第12页
    1.2.3 溅射镀膜第12-13页
  1.3 磁控溅射技术第13-20页
    1.3.1 多靶共溅射第16页
    1.3.2 反应溅射第16-18页
    1.3.3 射频溅射第18-19页
    1.3.4 中频溅射和脉冲溅射第19页
    1.3.5 高速溅射和自溅射第19-20页
    1.3.6 离子束溅射第20页
  1.4 直流磁控溅射及能量过滤直流磁控溅射设备第20-21页
  1.5 本课题的研究内容及选题意义第21-26页
2 过滤电极网孔大小对TiO_2薄膜特性的影响第26-36页
  2.1 TiO_2薄膜的制备第26-28页
  2.2 结果与分析第28-35页
  2.3 小结第35-36页
3 过滤电极网孔大小对ITO薄膜特性的影响第36-45页
  3.1 ITO薄膜的制备第36-37页
  3.2 实验结果分析第37-44页
  3.3 小结第44-45页
4 过滤电极网孔大小对ZnO薄膜特性的影响第45-52页
  4.1 ZnO薄膜的制备第45-46页
  4.2 结果与分析第46-51页
  4.3 小结第51-52页
5 能量过滤磁控溅射技术制备TiO_2薄膜光学性能的均一性研究第52-60页
  5.1 TiO_2薄膜的制备第52-53页
  5.2 结果与分析第53-58页
  5.3 结论第58-60页
6 结论与展望第60-62页
  6.1 结论第60-61页
  6.2 展望第61-62页
参考文献第62-66页
致谢第66-67页
个人简历第67页

本篇论文共67页,点击这进入下载页面
 
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