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超导磁通量子比特的制备及Al/AlO_x/Al结特性参数的研究

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超导磁通量子比特的制备及Al/AlO_x/Al结特性参数的研究
论文目录
 
摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 前言第10-19页
  1.1 量子计算简介第10-13页
    1.1.1 量子比特和量子叠加态第10-11页
    1.1.2 消相干作用第11-12页
    1.1.3 实现量子计算的物理载体第12-13页
  1.2 超导量子比特第13-19页
    1.2.1 超导技术第13页
    1.2.2 超导LC振荡电路第13-14页
    1.2.3 约瑟夫森结(Josephson junction,JJ)第14-15页
    1.2.4 超导磁通量子比特第15-17页
    1.2.5 超导量子比特的发展及现状第17-19页
第二章 超导磁通量子比特的制备第19-40页
  2.1 深紫外光曝光制备悬空掩膜结构第20-26页
    2.1.1 深紫外曝光技术的原理第20-21页
    2.1.2 制备悬空掩膜结构的工艺流程第21-22页
    2.1.3 影响悬空掩膜结构制备的重要因素第22-26页
  2.2 电子束蒸发系统制备铝薄膜第26-30页
    2.2.1 薄膜平整度与隧道结漏电比研究第26-28页
    2.2.2 蒸发角度的控制第28页
    2.2.3 制备铝膜过程中遇到的问题和解决方法第28-30页
  2.3 静态氧化法制备铝隧道结势垒层第30-32页
    2.3.1 静态氧化法第31页
    2.3.2 静态氧化时间的确定第31-32页
    2.3.3 静态氧化压强与铝结临界电流密度关系第32页
  2.4 透射电镜(TEM)分析铝隧道结三层结构第32-40页
    2.4.1 TEM分析简介第32-33页
    2.4.2 透射电镜样品制备第33-34页
    2.4.3 静态氧化压强与铝结势垒层厚度的关系第34-37页
    2.4.4 铝结临界电流密度与势垒层厚度的关系第37页
    2.4.5 隧道结I-V特性测试结果及DC-SQUID调制特性第37-40页
第三章 Al/AlO_x/Al隧道结相位扩散的现象第40-50页
  3.1 约瑟夫森结相位动力学模型与相位消散现象第40-42页
  3.2 跳变电流分布(SCD)测量第42-43页
  3.3 隧道结跳变电流在不同温度下的统计分布第43-45页
    3.3.1 Nb/AlO_x/Nb结的跳变电流统计分布第43-44页
    3.3.2 Al/AlO_x/Al结的跳变电流统计分布第44-45页
  3.4 测量结果分析第45-49页
  3.5 结论第49-50页
第四章 超导磁屏蔽系统设计第50-55页
  4.1 超导体的Meissner效应第50页
  4.2 磁屏蔽系统设计与成品第50-52页
  4.3 磁屏蔽系统测试第52-54页
  4.4 小结第54-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士期间发表或待发表的论文第59-60页
致谢第60-61页

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