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磁控溅射β-NiAl微晶涂层的制备与其在1100℃下抗高温氧化行为的研究

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磁控溅射β-NiAl微晶涂层的制备与其在1100℃下抗高温氧化行为的研究
论文目录
 
摘要第1-6页
abstract第6-10页
第1章 绪论第10-24页
  1.1 引言第10页
  1.2 高温防护涂层第10-14页
  1.3 涂层的制备方法第14-17页
  1.4 高温防护涂层的退化第17-20页
    1.4.1 铝化物涂层和包覆涂层的退化第17-19页
    1.4.2 热障涂层的退化第19-20页
    1.4.3 热腐蚀第20页
  1.5 扩散障第20-22页
  1.6 论文的研究内容与意义第22-24页
第2章 实验材料及实验方法第24-32页
  2.1 基体材料第24-25页
  2.2 涂层的制备第25-28页
    2.2.1 磁控溅射β-NiAl微晶涂层的制备第25-27页
    2.2.2 电弧离子镀Ni CrAl Y涂层和Ni-Cr-O活性扩散障的制备第27-28页
  2.3 高温氧化实验第28-30页
    2.3.1 恒温氧化(Isothermal oxidation)实验第28-29页
    2.3.2 循环氧化(Cyclic oxidation)实验第29-30页
  2.4 样品分析测试方法第30-31页
    2.4.1 X射线衍射分析(XRD)第30页
    2.4.2 扫描电子显微镜和能谱分析第30-31页
    2.4.3 电子探针显微分析(EPMA)第31页
    2.4.4 透射电子显微镜(TEM)第31页
  2.5 本章小结第31-32页
第3章 退火前后涂层组织结构的变化第32-40页
  3.1 引言第32页
  3.2 磁控溅射β-NiAl微晶涂层制备时涂层组织结构的变化第32-36页
  3.3 电弧离子镀Ni CrAl Y涂层退火后涂层的组织结构第36-38页
  3.4 本章小结第38-40页
第4章 涂层在 1100℃恒温氧化行为的研究第40-56页
  4.1 引言第40页
  4.2 恒温氧化(TGA)结果与分析第40-50页
    4.2.1 物相分析(XRD)第40-41页
    4.2.2 氧化动力学分析第41-43页
    4.2.3 恒温氧化后的微观形貌观察与分析第43-48页
    4.2.4 氧化后涂层截面EPMA结果第48-50页
  4.3 讨论第50-54页
    4.3.1 氧化膜(TGO)的生长速率第50-52页
    4.3.2 涂层与合金基体间的互扩散第52-54页
  4.4 本章小结第54-56页
第5章 涂层在 1100℃循环氧化行为的研究第56-64页
  5.1 引言第56页
  5.2 循环氧化结果与分析第56-61页
    5.2.1 物相分析(XRD)第56页
    5.2.2 循环氧化动力学分析第56-58页
    5.2.3 循环氧化后的微观形貌观察与分析第58-61页
  5.3 讨论第61-63页
    5.3.1 氧化膜(TGO)的粘附性第61-63页
  5.4 本章小结第63-64页
第6章 Ni-Cr-O活性扩散障的初步研究第64-74页
  6.1 引言第64页
  6.2 Ni-Cr-O活性扩散障的形成第64-72页
    6.2.1 制备态Ni-Cr-O活性扩散障与Ni-Al涂层的表征第64-65页
    6.2.2 退火后Ni-Cr-O活性扩散障的形成第65-72页
  6.3 扩散障涂层在 1200℃恒温氧化(TGA)行为的研究第72-73页
  6.4 本章小结第73-74页
结论第74-76页
参考文献第76-82页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第82-84页
致谢第84页

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