论文目录 | |
摘要 | 第1-6页 |
abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 高温防护涂层 | 第10-14页 |
1.3 涂层的制备方法 | 第14-17页 |
1.4 高温防护涂层的退化 | 第17-20页 |
1.4.1 铝化物涂层和包覆涂层的退化 | 第17-19页 |
1.4.2 热障涂层的退化 | 第19-20页 |
1.4.3 热腐蚀 | 第20页 |
1.5 扩散障 | 第20-22页 |
1.6 论文的研究内容与意义 | 第22-24页 |
第2章 实验材料及实验方法 | 第24-32页 |
2.1 基体材料 | 第24-25页 |
2.2 涂层的制备 | 第25-28页 |
2.2.1 磁控溅射β-NiAl微晶涂层的制备 | 第25-27页 |
2.2.2 电弧离子镀Ni CrAl Y涂层和Ni-Cr-O活性扩散障的制备 | 第27-28页 |
2.3 高温氧化实验 | 第28-30页 |
2.3.1 恒温氧化(Isothermal oxidation)实验 | 第28-29页 |
2.3.2 循环氧化(Cyclic oxidation)实验 | 第29-30页 |
2.4 样品分析测试方法 | 第30-31页 |
2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第30页 |
2.4.2 扫描电子显微镜和能谱分析 | 第30-31页 |
2.4.3 电子探针显微分析(EPMA) | 第31页 |
2.4.4 透射电子显微镜(TEM) | 第31页 |
2.5 本章小结 | 第31-32页 |
第3章 退火前后涂层组织结构的变化 | 第32-40页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 磁控溅射β-NiAl微晶涂层制备时涂层组织结构的变化 | 第32-36页 |
3.3 电弧离子镀Ni CrAl Y涂层退火后涂层的组织结构 | 第36-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-40页 |
第4章 涂层在 1100℃恒温氧化行为的研究 | 第40-56页 |
4.1 引言 | 第40页 |
4.2 恒温氧化(TGA)结果与分析 | 第40-50页 |
4.2.1 物相分析(XRD) | 第40-41页 |
4.2.2 氧化动力学分析 | 第41-43页 |
4.2.3 恒温氧化后的微观形貌观察与分析 | 第43-48页 |
4.2.4 氧化后涂层截面EPMA结果 | 第48-50页 |
4.3 讨论 | 第50-54页 |
4.3.1 氧化膜(TGO)的生长速率 | 第50-52页 |
4.3.2 涂层与合金基体间的互扩散 | 第52-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-56页 |
第5章 涂层在 1100℃循环氧化行为的研究 | 第56-64页 |
5.1 引言 | 第56页 |
5.2 循环氧化结果与分析 | 第56-61页 |
5.2.1 物相分析(XRD) | 第56页 |
5.2.2 循环氧化动力学分析 | 第56-58页 |
5.2.3 循环氧化后的微观形貌观察与分析 | 第58-61页 |
5.3 讨论 | 第61-63页 |
5.3.1 氧化膜(TGO)的粘附性 | 第61-63页 |
5.4 本章小结 | 第63-64页 |
第6章 Ni-Cr-O活性扩散障的初步研究 | 第64-74页 |
6.1 引言 | 第64页 |
6.2 Ni-Cr-O活性扩散障的形成 | 第64-72页 |
6.2.1 制备态Ni-Cr-O活性扩散障与Ni-Al涂层的表征 | 第64-65页 |
6.2.2 退火后Ni-Cr-O活性扩散障的形成 | 第65-72页 |
6.3 扩散障涂层在 1200℃恒温氧化(TGA)行为的研究 | 第72-73页 |
6.4 本章小结 | 第73-74页 |
结论 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-82页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第82-84页 |
致谢 | 第84页 |