论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
| 1.2 激光熔覆技术 | 第10-12页 |
| 1.2.1 激光熔覆技术的发展 | 第10-11页 |
| 1.2.2 激光熔覆技术的原理 | 第11页 |
| 1.2.3 激光熔覆技术的优点 | 第11-12页 |
| 1.2.4 激光熔覆技术的缺陷 | 第12页 |
| 1.3 激光熔覆工艺 | 第12-13页 |
| 1.3.1 熔覆材料的供给方式 | 第12-13页 |
| 1.3.2 激光熔覆工艺因素 | 第13页 |
| 1.4 激光熔覆材料 | 第13-16页 |
| 1.4.1 自熔性合金粉末 | 第14-15页 |
| 1.4.2 陶瓷粉末 | 第15-16页 |
| 1.4.3 复合材料粉末 | 第16页 |
| 1.5 激光熔覆耐磨涂层国内外发展研究进展 | 第16-17页 |
| 1.6 选题依据及研究内容 | 第17-20页 |
| 第二章 试验材料及方法 | 第20-28页 |
| 2.1 激光熔覆试验材料 | 第20-23页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第20页 |
| 2.1.2 熔覆材料 | 第20-22页 |
| 2.1.2.1 TC4粉末 | 第20-21页 |
| 2.1.2.2 Ni/B_4C | 第21页 |
| 2.1.2.3 hBN | 第21-22页 |
| 2.1.3 熔覆材料配比 | 第22-23页 |
| 2.2 激光熔覆层的制备 | 第23-24页 |
| 2.3 组织与性能测试方法及设备 | 第24-28页 |
| 2.3.1 金相试样制备方法 | 第24-25页 |
| 2.3.2 涂层组织及结构分析 | 第25页 |
| 2.3.3 显微硬度测试 | 第25-26页 |
| 2.3.4 摩擦磨损性能测试 | 第26-28页 |
| 第三章 激光熔覆TC4-hBN熔覆层的研究 | 第28-36页 |
| 3.1 熔覆层宏观质量 | 第28-29页 |
| 3.2 10wt%hBN熔覆层的组织结构 | 第29-33页 |
| 3.3 熔覆层的显微硬度 | 第33页 |
| 3.4 熔覆层摩擦磨损性能 | 第33-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 激光熔覆TC4+Ni/B_4C涂层的研究 | 第36-72页 |
| 4.1 工艺参数对TC4+Ni/B_4C熔覆层宏观质量的影响 | 第36-46页 |
| 4.1.1 工艺参数对10wt%Ni/B_4C熔覆层宏观质量的影响 | 第36-43页 |
| 4.1.1.1 扫描速度对10wt%Ni/B_4C熔覆层表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| 4.1.1.2 扫描速度对10wt%Ni/B_4C熔覆层形状特征的影响 | 第38-42页 |
| 4.1.1.3 激光功率对10wt%Ni/B_4C熔覆层表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| 4.1.2 工艺参数对20wt%Ni/B_4C熔覆层宏观质量的影响 | 第43-46页 |
| 4.1.2.1 扫描速度对20wt%Ni/B_4C熔覆层表面形貌的影响 | 第43页 |
| 4.1.2.2 扫描速度对20wt%Ni/B_4C熔覆层截面形貌的影响 | 第43-44页 |
| 4.1.2.3 激光功率对20wt%Ni/B_4C熔覆层表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| 4.1.2.4 激光功率对20wt%Ni/B_4C熔覆层表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| 4.2 TC4+Ni/B_4C熔覆层热力学分析 | 第46-50页 |
| 4.3 TC4+Ni/B-4C熔覆层的微观组织结构分析 | 第50-70页 |
| 4.3.1 10wt%Ni/B_4C熔覆层的微观组织结构分析 | 第50-57页 |
| 4.3.1.1 10wt%Ni/B_4C熔覆层的XRD分析 | 第50-51页 |
| 4.3.1.2 10wt%Ni/B_4C熔覆层的SEM分析 | 第51-52页 |
| 4.3.1.3 10wt%Ni/B_4C熔覆层组织生长机理分析 | 第52-57页 |
| 4.3.2 工艺参数对10wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.2.1 扫描速度对10wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.2.2 激光功率对10wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第58-59页 |
| 4.3.3 20wt%Ni/B_4C涂层的微观组织结构分析 | 第59-66页 |
| 4.3.3.1 20wt%Ni/B_4C熔覆层的XRD相分析 | 第59-60页 |
| 4.3.3.2 20wt%Ni/B_4C熔覆层的SEM分析 | 第60-62页 |
| 4.3.3.3 20wt%Ni/B_4C熔覆层组织生长机理分析 | 第62-66页 |
| 4.3.4 工艺参数对20wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第66-70页 |
| 4.3.4.1 扫描速度对20wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第66-68页 |
| 4.3.4.2 激光功率对20wt%Ni/B_4C熔覆层组织结构的影响 | 第68-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 TC4+Ni/B_4C涂层的性能研究 | 第72-82页 |
| 5.1 熔覆层的硬度分析 | 第72-75页 |
| 5.1.1 扫描速度对熔覆层显微硬度的影响 | 第72-73页 |
| 5.1.2 激光功率对熔覆层显微硬度的影响 | 第73-74页 |
| 5.1.3 Ni/B_4C的含量对熔覆层显微硬度的影响 | 第74-75页 |
| 5.2 熔覆层摩擦磨损性能分析 | 第75-81页 |
| 5.2.1 扫描速度对摩擦磨损性能的影响 | 第75-77页 |
| 5.2.2 激光功率对摩擦磨损性能的影响 | 第77页 |
| 5.2.3 Ni/B4C的含量对摩擦磨损性能的影响 | 第77-78页 |
| 5.2.4 试验环境对摩擦磨损性能的影响 | 第78-79页 |
| 5.2.5 磨损形貌以及磨损机理的分析 | 第79-81页 |
| 5.3 本章小结 | 第81-82页 |
| 第六章 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 发表论文情况 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
