论文目录 | |
郑重声明 | 第1-5
页 |
中文摘要 | 第5-7
页 |
英文摘要 | 第7-12
页 |
第一章 富勒烯光学材料的研究进展 | 第12-33
页 |
· C_(60)简介 | 第12-14
页 |
· C_(60)的化学修饰 | 第14-17
页 |
· C_(60)化学行为 | 第14-15
页 |
· C_(60)的反应规则 | 第15-16
页 |
· C_(60)的衍生化 | 第16-17
页 |
· C_(60)及其衍生物的光学功能特性 | 第17-21
页 |
· 吸光发光特性 | 第17-19
页 |
· 非线性光学特性 | 第19-21
页 |
· C_(60)光学功能高分子材料 | 第21-25
页 |
· C_(60)高分子发光材料 | 第21-22
页 |
· C_(60)高分子非线性光学材料 | 第22-23
页 |
· C_(60)高分子光电材料 | 第23-25
页 |
· C_(60)紫外光学材料及本论文的选题思想 | 第25-26
页 |
参考文献 | 第26-33
页 |
第二章 C_(60)衍生物/聚合物共混膜的制备及其紫外光学性能的研究 | 第33-48
页 |
· 引言 | 第33
页 |
· 实验部分 | 第33-38
页 |
一、 主要的原料试剂及测试仪器 | 第33-34
页 |
二、 富勒烯胺的合成 | 第34-35
页 |
三、 不同分子量、不同脱乙酰度、羧甲基化壳聚糖的制备 | 第35-37
页 |
四、 共混膜的制备 | 第37-38
页 |
· 结果与讨论 | 第38-45
页 |
一、 富勒烯胺/壳聚糖共混膜紫外光学性能的研究 | 第38-43
页 |
二、 C_(60)乙醇胺/聚乙烯醇共混膜紫外光学性能的研究 | 第43-44
页 |
三、 C_(60)及C_(60)正丙胺/聚苯乙烯共混膜紫外光学性能的研究 | 第44-45
页 |
· 结论 | 第45-46
页 |
参考文献 | 第46-48
页 |
第三章 富勒烯胺/壳聚糖复合体系滤光机制的探讨 | 第48-59
页 |
· 引言 | 第48-49
页 |
· 实验部分 | 第49
页 |
一、 主要原料与试剂及测试仪器 | 第49
页 |
· 结果与讨论 | 第49-57
页 |
一、 三种富勒烯胺溶液的透射光谱研究 | 第49-51
页 |
二、 富勒烯胺吸收光谱的研究 | 第51-52
页 |
三、 富勒烯胺荧光发射光谱的研究 | 第52-54
页 |
四、 富勒烯胺/壳聚糖复合体系研究 | 第54-57
页 |
· 结论 | 第57
页 |
参考文献 | 第57-59
页 |
第四章 含金属离子和纳米SiO_2共混膜的紫外光学性能及C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜的初步应用 | 第59-68
页 |
· 引言 | 第59-60
页 |
· 实验部分 | 第60-61
页 |
一、 主要原料与试剂及测试仪器 | 第60
页 |
二、 含Cu(Ⅱ)的C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜的制备 | 第60-61
页 |
三、 含纳米SiO_2的C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜的制备 | 第61
页 |
四、 拉伸和冲击试样的制备 | 第61
页 |
五、 紫外老化试验 | 第61
页 |
· 结果与讨论 | 第61-67
页 |
一、 金属离子对C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜紫外光学性能的影响 | 第61-65
页 |
二、 纳米SiO_2对C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜紫外光学性能的影响 | 第65
页 |
三、 C_(60)乙醇胺/壳聚糖共混膜的应用 | 第65-67
页 |
· 结论 | 第67
页 |
参考文献 | 第67-68
页 |
第五章 C_(60)乙醇胺/聚硅酸乙酯紫外光学涂层的研究 | 第68-75
页 |
· 引言 | 第68
页 |
· 实验部分 | 第68-70
页 |
一、 主要的原料与试剂 | 第68-69
页 |
二、 聚硅酸乙酯的制备 | 第69
页 |
三、 用聚乙烯醇缩丁醛作改性聚硅酸乙酯的改性 | 第69
页 |
四、 涂层样板的制备 | 第69
页 |
五、 涂层性能的测试方法 | 第69-70
页 |
六、 耐候性试验 | 第70
页 |
· 结果与讨论 | 第70-73
页 |
一、 水解度对涂层性能的影响 | 第70-71
页 |
二、 PVB的量对改性聚硅酸乙酯涂层的影响 | 第71
页 |
三、 C_(60)乙醇胺对改性聚硅酸乙酯透过率的影响 | 第71-72
页 |
四、 C_(60)乙醇胺对涂层性能的影响 | 第72
页 |
五、 温度对涂层性能的影响 | 第72-73
页 |
六、 紫外辐照对涂层性能的影响 | 第73
页 |
· 结论 | 第73
页 |
参考文献 | 第73-75
页 |
附: 作者已发表和待发表的论文 | 第75-76
页 |
致谢 | 第76
页 |