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金属表面硅烷分子吸附及成膜动力学机理

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金属表面硅烷分子吸附及成膜动力学机理
论文目录
 
作者简介第1-6页
摘要第6-8页
ABSTRACT第8-12页
第一章 绪论第12-33页
  §· 金属腐蚀与防护第12-16页
    · 金属腐蚀的定义第12页
    · 金属腐蚀的分类第12-14页
    · 金属腐蚀的危害性第14-15页
    · 金属腐蚀的防护第15-16页
  §· 硅烷偶联剂第16-27页
    · 硅烷偶联剂的发展历史第17-18页
    · 硅烷偶联剂的种类第18-19页
    · 硅烷偶联剂的结构第19-20页
    · 硅烷偶联剂的作用机理第20-23页
      · 化学键合理论第20-22页
      · 表面能理论第22页
      · 酸碱相互作用理论第22-23页
      · 可逆水解平衡理论第23页
      · 物理吸附理论第23页
    · 硅烷偶联剂的应用现状及发展趋势第23-26页
      · 用于表面改性剂第24页
      · 用作密封剂和黏合促进剂第24-25页
      · 在涂料中的应用第25页
      · 在无机-有机杂化纳米复合材料中的应用第25-26页
    · 硅烷偶联剂的选用原则第26-27页
  §· 硅烷偶联剂在金属表面预处理领域的应用第27-30页
    · 金属表面硅烷偶联化预处理技术的简介第27-28页
    · 硅烷偶联化预处理技术的优点第28页
    · 金属表面硅烷偶联化预处理技术的研究现状第28-30页
  §· 问题的提出及意义第30-31页
  §· 研究内容及拟解决的关键科学问题第31-33页
第二章 实验内容及方法第33-39页
  §· 实验材料及其性状第33-34页
    · 实验材料第33页
    · 主要材料介绍第33-34页
      · 硅烷偶联剂KH-550(γ-APS)第34页
      · 硅烷偶联剂KH-560(γ-GPS)第34页
      · 涂层基体材料第34页
  §· 实验仪器及设备第34-35页
  §· 实验方法第35-37页
    · 实验流程第35-36页
    · 基材的前处理第36页
    · 硅烷溶液的配制第36页
    · 硅烷膜的制备第36-37页
  §· 分析表征第37-39页
    · 反射吸收红外光谱法(RA-IR)第37页
    · 电化学交流阻抗测试(EIS)第37页
    · 原子力显微镜(AFM)第37-39页
第三章 γ-GPS硅烷分子在金属表面的吸附成膜动力学第39-52页
  §· 金属表面硅烷分子吸附成膜行为的研究现状第39-40页
  §· 低碳钢表面γ-GPS硅烷分子的吸附成膜行为研究第40-51页
    · γ-GPS硅烷膜的化学结构第40-43页
    · γ-GPS硅烷膜层的电化学性能第43-46页
    · γ-GPS硅烷膜的三维形貌第46-48页
    · γ-GPS在低碳钢表面的吸附成膜模型第48-51页
  §· 本章小结第51-52页
第四章 γ-APS硅烷分子在金属表面的吸附成膜动力学第52-68页
  §· 硅烷水解液pH值对硅烷膜生长行为的影响第52-58页
    · γ-APS硅烷膜的化学结构第53-54页
    · γ-APS硅烷膜的电化学性能第54-58页
  §· 吸附界面微区pH值对硅烷膜生长行为的影响第58-65页
    · γ-APS硅烷膜的电化学性能第59-63页
    · γ-APS硅烷膜的化学结构第63-65页
  §· pH值对γ-APS硅烷膜生长行为的影响机制第65-66页
  §· 本章小结第66-68页
第五章 结论与展望第68-70页
  §· 结论第68-69页
  §· 展望第69-70页
致谢第70-71页
参考文献第71-77 页

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