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射频磁控溅射粉末靶制备多层透明导电薄膜的特性

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射频磁控溅射粉末靶制备多层透明导电薄膜的特性
论文目录
 
中文摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
·绪论第10-15页
  · 研究背景及意义第10-11页
  · TCO/金属/TCO多层膜发展过程及特点第11-12页
  · PI薄膜和PI/石墨烯薄膜的特点第12-13页
  · 制备方法与内容第13-15页
·实验及表征方法第15-24页
  · 实验第15-16页
    · 实验设备第15-16页
    · 实验材料第16页
    · 薄膜制备第16页
  · 表征方法第16-24页
    · 原子力显微镜第16-18页
    · X射线衍射仪第18-20页
    · 台阶仪第20-21页
    · 紫外-可见分光光度计第21-22页
    · 霍尔效应测试仪第22-24页
·玻璃、PI和PI/石墨烯基体上制备单层薄膜第24-31页
  · 玻璃、PI和PI/石墨烯上制备单层AZO薄膜第24-26页
    · 玻璃、PI和PI/石墨烯上单层AZO薄膜的光学性能比较第24-25页
    · 玻璃、PI和PI/石墨烯上单层AZO薄膜的电学性能比较第25-26页
  · 玻璃、PI和PI/石墨烯上制备单层Ag薄膜第26-30页
    · 玻璃、PI和PI/石墨烯上单层Ag薄膜的光学性能比较第27-29页
    · 玻璃、PI和PI/石墨烯上单层Ag薄膜的电学性能比较第29-30页
  · 小结第30-31页
·玻璃基体上制备AZO/Ag/AZO三层薄膜第31-48页
  · 玻璃基体上制备的单层膜与三层膜比较第31-35页
    · 玻璃基体上单层膜与三层膜表面形貌比较第31-32页
    · 玻璃基体上单层膜与三层膜结构比较第32-33页
    · 玻璃基体上单层膜与三层膜光学性能比较第33-34页
    · 玻璃基体上单层膜与三层膜电学性能比较第34-35页
  · 玻璃基体上中间Ag层厚度对三层膜的影响第35-41页
    · 玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜表面形貌影响第35-36页
    · 玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜结构影响第36-37页
    · 玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜光学性能影响第37-38页
    · 玻璃基体上中间Ag层厚度变化对三层膜电学性能影响第38-40页
    · 玻璃基体上中间Ag层厚度对三层膜影响的综合分析第40-41页
  · 玻璃基体上两组不同Ag层厚度的三层膜对比第41-46页
    · 玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的表面形貌对比第41-42页
    · 玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的结构变化比较第42-44页
    · 玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的光学性能对比第44-45页
    · 玻璃基体上两组不同Ag层厚度三层膜的电学性能对比第45-46页
  · 玻璃基体上制备AZO/Ag/AZO三层薄膜的稳定性第46-47页
  · 小结第47-48页
·玻璃和PI基体上制备AZO/Ag/AZO薄膜的性能比较第48-53页
  · 玻璃和PI基体上三层膜表面形貌比较第48-49页
  · 玻璃和PI基体上三层膜结构比较第49-50页
  · 玻璃和PI基体上三层膜光学性能比较第50-51页
  · 玻璃和PI基体上三层膜电学性能比较第51-52页
  · 小结第52-53页
· PI/石墨烯/Ag/AZO薄膜的制备第53-56页
·结论第56-58页
参考文献第58-61页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第61-62页
致谢第62-63页
作者简介第63-64页

本篇论文共64页,点击这进入下载页面
 
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