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聚碳酸酯（PC）上沉积类金刚石膜的性能研究
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聚碳酸酯（PC）上沉积类金刚石膜的性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-21页
　　· 聚碳酸酯材料的特性及应用第11-13页
　　　　· 聚碳酸酯材料的特性第11页
　　　　· 聚碳酸酯材料的应用第11-13页
　　· 类金刚石薄膜的结构及性质第13-14页
　　　　· 类金刚石薄膜的结构第13-14页
　　　　· 类金刚石薄膜的性质第14页
　　· 类金刚石薄膜在PC材料表面改性方面的应用第14-16页
　　　　· 光盘第14-15页
　　　　· 医学领域第15页
　　　　· 光学领域第15-16页
　　　　· 其他领域第16页
　　· 在聚碳酸酯材料上制备DLC薄膜的主要沉积方法及研究进展第16-20页
　　　　· 物理气相沉积方法第16-18页
　　　　· 化学气相沉积方法第18-20页
　　· 研究的目的和内容第20页
　　· 本章小结第20-21页
第二章 类金刚石薄膜的制备方法第21-34页
　　· 射频磁控溅射方法制备DLC第21-27页
　　　　· 射频磁控溅射方法基本原理第21-22页
　　　　· 射频磁控溅射中DLC膜形成过程第22-23页
　　　　· 实验设备第23页
　　　　· 工艺流程第23-25页
　　　　· 工艺参数第25-27页
　　· RF-PECVD方法制备DLC第27-33页
　　　　· RF-PECVD方法基本原理第27-28页
　　　　· RF-PECVD方法DLC薄膜形成过程第28-29页
　　　　· 实验设备第29-30页
　　　　· 工艺流程第30-32页
　　　　· 工艺参数第32-33页
　　· 本章小结第33-34页
第三章 类金刚石薄膜的结构分析和形貌表征第34-50页
　　· 结构分析第34-47页
　　　　· X射线衍射谱(XRD)第34-36页
　　　　· 拉曼光谱(Raman)第36-42页
　　　　　　· Raman光谱的高斯分解第37-40页
　　　　　　· 数据比较与讨论第40-42页
　　　　· X射线光电子能谱(XPS)第42-47页
　　　　　　· XPS光谱分析第43页
　　　　　　· C1sXPS峰位分析第43-44页
　　　　　　· C1sXPS峰位高斯分解第44-46页
　　　　　　· sp~3与sp~2键组分的计算第46-47页
　　· 表面形貌第47-48页
　　· 小结第48-50页
第四章 类金刚石薄膜机械性能研究第50-71页
　　· 膜厚与表面粗糙度测量第50-54页
　　　　· 测试设备第50-51页
　　　　　　· 设备简介第50页
　　　　　　· TR200粗糙度参数定义第50-51页
　　　　· 膜厚的测量第51-52页
　　　　· 表面粗糙度的测量第52-54页
　　· DLC膜的摩擦学特性第54-64页
　　　　· 摩擦系数的测定第55-60页
　　　　　　· RF-PFCVD沉积工艺参数对摩擦系数的影响第55-58页
　　　　　　· 射频磁控溅射沉积工艺参数对摩擦系数的影响第58-60页
　　　　· 耐磨损性能第60-64页
　　　　　　· 入射功率对耐磨损性的影响第61页
　　　　　　· 不同过渡层对耐磨损性的影响第61-64页
　　· DLC薄膜的硬度表征第64-70页
　　　　· 铅笔硬度表征第64页
　　　　· 纳米压痕仪(Nanoindentation)硬度分析第64-70页
　　　　　　· 纳米硬度测试的基本原理第65-66页
　　　　　　· 实验结果及讨论第66-70页
　　· 耐腐蚀性能测试第70页
　　· 本章小结第70-71页
第五章 类金刚石薄膜光学特性第71-79页
　　· 透射率的测定—可见-紫外分光光度计第71-72页
　　· 紫外光谱区透射率第72-74页
　　　　· 普通树脂镜片基底第72-73页
　　　　· PC太空镜片基底第73-74页
　　· 可见光谱区透射率第74-78页
　　　　· RF-PECVD制备方法第74-76页
　　　　　　· 射频入射功率的影响第74页
　　　　　　· Ar/CH_4气体流量比的影响第74-75页
　　　　　　· 过渡层的影响第75-76页
　　　　　　· 沉积时间的影响第76页
　　　　· 磁控溅射制备方法第76-78页
　　　　　　· 射频入射功率的影响第77页
　　　　　　· 直流负偏压的影响第77-78页
　　· 本章小结第78-79页
第六章 结论与建议第79-81页
　　· 结论第79-80页
　　· 建议第80-81页
参考文献第81-85页
致谢第85-86页
硕士期间发表论文第86 页

本篇论文共86页，点击这进入下载页面。
 
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