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RTD/HEMT/MSM光电集成研究

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RTD/HEMT/MSM光电集成研究
论文目录
 
第一章 绪论第1-13 页
  1.1 发展历史及现状第7-11 页
    1.1.1 RTD 的发展历史及现状第7-9 页
    1.1.2 MSM 的发展与现状第9-10 页
    1.1.3 HEMT 的发展与现状第10-11 页
  1.2 待研究的光电逻辑单元电路第11-12 页
  1.3 本论文的任务第12-13 页
第二章 RTD,HEMT和MSM器件工作原理第13-23 页
  2.1 RTD 的器件原理第13-17 页
    2.1.1 半导体超晶格第13 页
    2.1.2 RTD 的电流特性第13-16 页
    2.1.3 由RTD 发展到RTT第16 页
    2.1.4 RTD 的特点第16-17 页
  2.2 HEMT 的结构及工作原理第17-19 页
  2.3 MSM 光电探测器第19-23 页
    2.3.1 LT-GaAs MSM-PD第20 页
    2.3.2 GaAs HMSM—PD第20 页
    2.3.3 引入内建电场型GaAs MSM-PD第20-21 页
    2.3.4 ITO/GaAs MSM-PD第21-22 页
    2.3.5 窄FW、窄FS 超高速GaAs MSM-PD第22-23 页
第三章 器件设计模拟与测试第23-34 页
  3.1 RTD 设计第23-24 页
  3.2 RTD 器件模拟第24-27 页
  3.3 HEMT 设计第27-29 页
  3.4 HEMT 器件模拟第29-32 页
  3.5 MSM 设计第32-34 页
第四章 工艺研制与版图设计第34-44 页
  4.1 单项工艺第34-42 页
    4.1.1 分子束外延技术(MBE)第34-35 页
    4.1.2 低压化学汽相淀积(LPCVD)第35 页
    4.1.3 真空磁控溅射第35-37 页
    4.1.4 光刻第37-39 页
    4.1.5 选择腐蚀技术第39-40 页
    4.1.6 正性抗蚀剂(正胶)与金属剥离工艺第40-41 页
    4.1.7 欧姆接触形成第41-42 页
  4.2 版图第42-43 页
  4.3 RTD 或RTD+HEMT+MSM 工艺流程第43-44 页
第五章 电路模拟与测试第44-52 页
  5.1 RTD 器件的电路模型第44-46 页
  5.2 RTD 电路特性第46-49 页
  5.3 电路模拟及测试结果第49-52 页
第六章 总结第52-54 页
参考文献第54-57 页
发表论文和科研情况说明第57-58 页
附录第58-63 页
致谢第63 页

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