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高吸收超薄NiCr/介质复合膜系制备与性能研究

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高吸收超薄NiCr/介质复合膜系制备与性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
abstract第6-11页
第一章 绪论第11-21页
  1.1 引言第11-12页
  1.2 可见光选择性吸收材料第12-14页
    1.2.1 超材料结构第12-13页
    1.2.2 金属/介质干涉结构第13-14页
    1.2.3 陷光结构体系第14页
  1.3 可见光全波段高吸收材料第14-18页
    1.3.1 基于碳纳米管的可见光全波段高吸收材料第14-15页
    1.3.2 一维光子晶体结构第15-17页
    1.3.3 复合等离激元超材料结构第17页
    1.3.4 多层渐变复合薄膜结构第17-18页
  1.4 超薄金属薄膜的光学特性第18-19页
  1.5 选题意义与研究内容第19-21页
    1.5.1 选题意义第19页
    1.5.2 研究内容第19-20页
    1.5.3 论文结构第20-21页
第二章 超薄NiCr金属薄膜微观结构与光电特性的研究第21-39页
  2.1 概述第21页
  2.2 超薄NiCr金属薄膜的制备第21-24页
    2.2.1 基片预处理第21-22页
    2.2.2 制备方法第22-24页
  2.3 膜厚测量第24-25页
  2.4 微观结构分析第25-29页
    2.4.1 XRD分析第25-26页
    2.4.2 AFM分析第26-29页
  2.5 XPS分析第29-31页
  2.6 光电特性分析第31-38页
    2.6.1 光学常数第31-34页
    2.6.2 吸收光谱第34-36页
    2.6.3 电学特性分析第36-38页
  2.7 本章小结第38-39页
第三章 Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4/NiCr结构体系的研究第39-53页
  3.1 引言第39页
  3.2 金属Al膜的光学性能与结构第39-43页
    3.2.1 概述第39-40页
    3.2.2 光学性质第40-41页
    3.2.3 XRD分析第41-42页
    3.2.4 AFM分析第42-43页
  3.3 介质膜SiO_2膜制备与光学参数第43-44页
    3.3.1 介质膜SiO_2制备第43页
    3.3.2 光学参数第43-44页
  3.4 介质膜Si_3N_4制备与光学参数第44-45页
    3.4.1 介质膜Si_3N_4制备第44-45页
    3.4.2 光学参数第45页
  3.5 基于Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4/NiCr结构体系NiCr膜厚的优化第45-49页
    3.5.1 NiCr膜厚对Al/SiO_2/NiCr复合膜吸收性能的影响第46-47页
    3.5.2 NiCr膜厚对Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4复合膜吸收性能的影响第47-48页
    3.5.3 NiCr膜厚对Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4/NiCr复合膜吸收性能影响第48-49页
  3.6 Si_3N_4膜厚对Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4/NiCr复合膜吸收性能的影响第49-51页
  3.7 XPS分析第51-52页
  3.8 本章小结第52-53页
第四章 Al/Si_3N_4/NiCr/SiO_2结构体系的研究第53-62页
  4.1 引言第53-54页
  4.2 基于Comsol软件对Al/Si_3N_4/NiCr/SiO_2结构体系厚度的优化第54-57页
    4.2.1 Comsol软件简介第54页
    4.2.2 Si_3N_4膜厚的优化第54-55页
    4.2.3 NiCr膜厚的优化第55-56页
    4.2.4 SiO_2厚度的优化第56-57页
  4.3 基于实验对Al/Si_3N_4/NiCr/SiO_2结构体系膜厚的优化第57-60页
    4.3.1 膜厚优化实验思路第57-58页
    4.3.2 NiCr膜厚对膜系吸收性能的影响第58-59页
    4.3.3 SiO_2膜厚对膜系吸收性能的影响第59-60页
    4.3.4 Si_3N_4膜厚对膜系吸收性能的影响第60页
  4.4 Al/SiO_2/NiCr/Si_3N_4结构体系的热稳定性分析第60-61页
  4.5 本章小结第61-62页
第五章 结论与展望第62-64页
  5.1 结论第62-63页
  5.2 展望第63-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-70页
攻读硕士学位期间研究成果第70页

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