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胶体刻蚀工艺制备纳米图案及图案功能的初步研究

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胶体刻蚀工艺制备纳米图案及图案功能的初步研究
论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第1章 绪论第11-28页
  · 引言第11-12页
  · 纳米材料概述第12-14页
    · 纳米材料的特性第12-13页
    · 纳米材料的现状及发展趋势第13-14页
  · 微纳米技术概述第14-16页
    · 微纳米技术的概念及应用第14-15页
    · 微纳米技术的种类第15-16页
  · 胶体刻蚀概述第16-23页
    · 胶体刻蚀的概念第16-17页
    · 纳米颗粒的自组装工艺第17-19页
    · 胶体刻蚀的发展及应用第19-23页
  · 溅射工艺概述第23-26页
    · 常规直流脉冲磁控溅射(DCMS)概述第23-24页
    · 高能脉冲磁控溅射(HiPPMS)概述第24-26页
  · 本课题的研究意义第26页
  · 研究内容第26-27页
  · 技术路线第27-28页
第2章 胶体掩膜的自组装工艺第28-35页
  · 胶体掩膜的自组装第28-30页
    · 方法选择第28页
    · 滴涂法组装实验步骤第28-29页
    · 漂浮法组装实验步骤第29-30页
  · 自组装胶体晶体的表征第30-31页
    · 扫描电子显微镜第30-31页
  · 结果与讨论第31-35页
    · 滴涂法工艺质量第31-32页
    · 漂浮法工艺质量第32-34页
    · 本章小结第34-35页
第3章 胶体掩膜的沉积工艺第35-49页
  · 直流磁控溅射工艺溅射沉积胶体掩膜第35-38页
    · 直流磁控溅射沉积工艺实验步骤第35-36页
    · 直流磁控溅射沉积的结果表征与分析第36-38页
  · 高能脉冲磁控溅射(HiPPMS)工艺溅射沉积胶体掩膜第38-45页
    · 高能脉冲磁控溅射沉积的实验步骤第38-40页
    · 高能脉冲磁控溅射的结果表征与分析第40-45页
  · 利用磁控溅射进行胶体掩膜沉积获得纳米图案的能力与基本策略第45-49页
第4章 TiO_2表面沉积Cu纳米图形的功能学表征第49-60页
  · 表征方法第49-51页
    · 接触角实验第49页
    · 光催化实验第49-50页
    · 血小板粘附实验第50-51页
    · 平滑肌培养实验第51页
  · 实验步骤第51-54页
    · 水接触角实验第51-52页
    · 光催化实验第52页
    · 血小板粘附实验第52-53页
    · 平滑肌培养实验第53-54页
  · 结果与讨论第54-59页
    · 水接触角结果第54-55页
    · 光催化实验结果第55-56页
    · 血小板粘附实验结果第56-58页
    · 平滑肌培养实验结果第58-59页
  · 本章小结第59-60页
结论及展望第60-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-67页
攻读硕士学位期间发表论文第67页
参与科研项目第67页

本篇论文共67页,点击这进入下载页面
 
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