论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7
页 |
| Abstract | 第7-13
页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25
页 |
| · 引言 | 第13
页 |
| · ZnO薄膜的概述 | 第13-16
页 |
| · ZnO薄膜的晶体结构 | 第14-15
页 |
| · ZnO薄膜的特性与应用 | 第15-16
页 |
| · ZnO薄膜的制备方法 | 第16-20
页 |
| · 物理气相沉积(PVD) | 第16-19
页 |
| · 真空蒸发(VE) | 第17
页 |
| · 磁控溅射(MS) | 第17
页 |
| · 离子束溅射沉积(IBD) | 第17-18
页 |
| · 脉冲激光沉积(PLD) | 第18-19
页 |
| · 化学气相沉积(CVD) | 第19-20
页 |
| · 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第19-20
页 |
| · 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第20
页 |
| · 溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第20
页 |
| · 薄膜的检测技术 | 第20-24
页 |
| · 结构分析 | 第21
页 |
| · 薄膜表面形貌分析 | 第21-22
页 |
| · 薄膜电阻测试 | 第22-23
页 |
| · 光学性能分析 | 第23-24
页 |
| · 本章小结 | 第24-25
页 |
| 第二章 射频(RF)磁控溅射和离子束溅射制备ZnO薄膜 | 第25-35
页 |
| · 引言 | 第25-26
页 |
| · 溅射的基本原理 | 第26-31
页 |
| · 磁控溅射镀膜机理 | 第27-29
页 |
| · 离子束溅射镀膜机理 | 第29-31
页 |
| · 薄膜的沉积过程 | 第31-32
页 |
| · 衬底的清洗方法 | 第32-33
页 |
| · FJL56081型超高真空磁控与离子束联合溅射设备制备ZnO薄膜 | 第33-34
页 |
| · 射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的操作步骤 | 第33
页 |
| · 离子束溅射法制备ZnO薄膜的操作步骤 | 第33-34
页 |
| · 本章小结 | 第34-35
页 |
| 第三章 射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的工艺与性能研究 | 第35-43
页 |
| · 引言 | 第35-36
页 |
| · 不同沉积时间下的ZnO薄膜XRD与AFM分析 | 第36-39
页 |
| · 退火对室温下沉积的ZnO薄膜结构与形貌的影响 | 第39-42
页 |
| · 本章小结 | 第42-43
页 |
| 第四章 离子束溅射法制备的ZnO薄膜性能研究 | 第43-57
页 |
| · 引言 | 第43
页 |
| · 不同退火温度下的ZnO薄膜XRD分析 | 第43-44
页 |
| · 不同沉积时间下的ZnO薄膜XRD与AFM分析 | 第44-48
页 |
| · 退火过程中不同保温时间下的ZnO薄膜XRD与AFM分析 | 第48-51
页 |
| · 不同衬底上制备的ZnO薄膜结构分析 | 第51-53
页 |
| · 采用离子束辅助溅射枪对ZnO薄膜二次溅射处理的研究 | 第53-55
页 |
| · 本章小结 | 第55-57
页 |
| 第五章 射频磁控溅射与离子束溅射制备的ZnO薄膜特性分析 | 第57-63
页 |
| · 引言 | 第57
页 |
| · 实验 | 第57-58
页 |
| · 结果与讨论 | 第58-62
页 |
| · 晶体结构 | 第58-59
页 |
| · 表面形貌 | 第59-61
页 |
| · 薄膜电阻率 | 第61-62
页 |
| · 本章小结 | 第62-63
页 |
| 第六章 总结 | 第63-65
页 |
| 参考文献 | 第65-71
页 |
| 附录:攻读硕士期间发表的论文 | 第71页 |
