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基于导电性变化的单晶硅表面机械损伤检测方法研究

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基于导电性变化的单晶硅表面机械损伤检测方法研究
论文目录
 
摘要第1-7页
abstract第7-12页
第1章 绪论第12-23页
  1.1 引言第12-13页
  1.2 单晶硅及其常见损伤检测方法第13-18页
    1.2.1 化学刻蚀法第13-14页
    1.2.2 截面显微法第14-15页
    1.2.3 X-射线衍射法第15-16页
    1.2.4 透射电镜法第16-17页
    1.2.5 显微拉曼光谱法第17-18页
  1.3 导电原子力显微镜的应用第18-20页
  1.4 选题意义及研究内容第20-23页
    1.4.1 选题意义第20-21页
    1.4.2 课题的研究内容第21-23页
第2章 实验材料和方法第23-35页
  2.1 实验材料第23-24页
  2.2 实验设备第24-30页
    2.2.1 导电原子力显微镜第24-28页
    2.2.2 多点接触微纳米加工设备第28页
    2.2.3 原位纳米力学测试系统第28-30页
  2.3 实验方法第30-35页
    2.3.1 材料表面划痕加工第30-32页
    2.3.2 导电原子力显微镜测试第32-35页
第3章 扫描速度和扫描角度对导电原子力显微镜检测的影响第35-42页
  3.1 扫描速度对导电原子力显微镜电流检测的影响第35-38页
  3.2 扫描角度对导电原子力显微镜电流检测的影响第38-39页
  3.3 干扰电流信号产生原因分析第39-40页
  3.4 本章小结第40-42页
第4章 单晶硅表面划痕的导电性第42-49页
  4.1 单晶硅表面机械损伤划痕的导电性第42-44页
    4.1.1 划痕载荷对机械损伤划痕表面电流的影响第42-43页
    4.1.2 偏转电压对机械损伤划痕表面电流的影响第43-44页
  4.2 单晶硅表面其它纳米划痕/结构的导电性第44-48页
    4.2.1 摩擦诱导纳米凸结构的导电性第44-46页
    4.2.2 摩擦化学诱导无损去除区域的导电性第46-48页
  4.3 本章小结第48-49页
第5章 单晶硅表面机械损伤划痕的导电机理第49-57页
  5.1 单晶硅的导电原理第49-50页
  5.2 硅的晶相转变及其性质第50-51页
  5.3 表面机械损伤致导电性增强的机理第51-53页
  5.4 单晶硅不同晶面的划痕导电性第53-55页
  5.5 抛光单晶硅片的损伤检测第55-56页
  5.6 本章小结第56-57页
结论与展望第57-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-66页
攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果第66页

本篇论文共66页,点击这进入下载页面
 
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