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单层过渡金属硫化物中拓扑激子态的研究

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单层过渡金属硫化物中拓扑激子态的研究
论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第1章 引言第8-17页
  1.1 研究背景第8-10页
  1.2 贝里相位第10-14页
    1.2.1 拓扑绝缘体第12-14页
  1.3 能谷激子第14-16页
  1.4 本文研究内容第16-17页
第2章 过渡金属硫化物中的能谷激子第17-39页
  2.1 能谷激子哈密顿量的推导第17-21页
  2.2 谷间相互作用第21-38页
    2.2.1 拓扑激子态的近似解第31-34页
    2.2.2 利用傅里叶变换求解精确解第34-37页
    2.2.3 规范变换和规范场第37-38页
  2.3 二维体系独有的谷激子项第38-39页
第3章 过渡金属硫化物中的拓扑激子第39-46页
  3.1 激子的拓扑性质第39-42页
  3.2 数值结果第42-45页
  3.3 小结第45-46页
第4章 基底材料应变下的拓扑激子第46-53页
  4.1 建立模型第46-48页
  4.2 模型的分析第48-51页
  4.3 小结第51-53页
第5章 总结第53-55页
参考文献第55-60页
附录第60-68页
致谢第68-69页
攻读硕士学位期间的研究成果第69页

本篇论文共69页,点击这进入下载页面
 
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