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乙醛酸化学镀铜的工艺与机理研究

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乙醛酸化学镀铜的工艺与机理研究
论文目录
 
Abstract第11-14页
中文摘要第14-16页
第一章 绪论第16-29页
  · 化学镀铜技术概况第16-17页
  · 化学镀铜的基本原理第17-19页
    · 化学镀溶液的组成及作用第17-18页
    · 化学镀铜的工艺过程第18-19页
  · 化学镀铜的动力学和机理研究第19-25页
    · 化学镀铜的动力学第19-20页
    · 化学镀铜的反应机理第20-23页
    · 化学镀铜的电化学研究第23-25页
  · 乙醛酸化学镀铜的研究现状和本论文的工作设想第25-26页
  参考文献第26-29页
第二章 实验条件与方法第29-35页
  · 化学镀工艺及相关测定第29-30页
    · 试剂和溶液第29页
    · 镀铜基体及表面处理第29-30页
    · 施镀条件第30页
    · 沉积速率的测定第30页
    · 镀层电阻率的测定第30页
  · 镀层的组成、结构与形貌的观测第30-32页
    · X-射线光电子能谱(XPS)第30-31页
    · X-射线衍射分析第31-32页
    · 扫描电子显微镜(SEM)第32页
  · 化学镀过程的电化学研究第32-34页
    · 伏安曲线的测定第32-33页
    · 开路电位-时间曲线的测定第33页
    · 红外反射光谱法第33-34页
  参考文献第34-35页
第三章 乙醛酸化学镀铜工艺参数对沉积速率和镀层结构性能的影响第35-51页
  · 镀液组成对铜沉积速率和镀液稳定性的影响第36-40页
    · 溶液pH值的影响第36-37页
    · 添加剂的影响第37-39页
    · 铜离子浓度、乙醛酸浓度和络合剂浓度的影响第39-40页
  · 反应温度对铜沉积速率和稳定性的影响第40-41页
  · 铜镀层的组成、结构和形貌第41-48页
    · 铜镀层的XPS和AES分析第41-44页
    · 铜镀层的XRD分析第44-45页
    · 铜镀层的形貌第45-48页
  · 镀层电阻率的测定第48-49页
  · 结论第49页
  参考文献第49-51页
第四章 乙醛酸化学镀铜过程的电化学研究第51-70页
  · 乙醛酸在铜电极上的阳极氧化第51-57页
    · SNIFTIR实验第51-53页
    · 乙醛酸浓度对氧化电流的影响第53页
    · 络合剂对乙醛酸氧化的影响第53-54页
    · 溶液pH值对乙醛酸氧化电流的影响第54-55页
    · 温度对乙醛酸氧化的影响第55-57页
  · 铜络合离子在铜电极上的阴极还原第57-60页
    · 络合剂浓度对铜离子还原的影响第57-58页
    · 溶液pH值对铜离子还原的影响第58-59页
    · 温度对铜离子还原的影响第59-60页
  · 添加剂对铜络合离子还原和乙醛酸氧化的影响第60-63页
    · 2,2ˊ-联吡啶的影响第60-61页
    · 亚铁氰化钾的影响第61-62页
    · 两种添加剂共存时的影响第62-63页
  · 乙醛酸化学镀铜的开路电位时间曲线第63-66页
  · 结论第66-67页
  参考文献第67-70页
致谢第70-71页
作者攻读硕士期间发表与交流的论文第71页

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