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氮化碳等含氮碳材料的制备与表面性质研究

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氮化碳等含氮碳材料的制备与表面性质研究
论文目录
 
摘要第5-6页
Abstract第6-10页
第1章 氮化碳的研究背景第10-20页
  1.1 有关氮化碳的历史第10-12页
  1.2 石墨相氮化碳的结构和性质第12-13页
  1.3 其他主要含碳、氮的材料第13-18页
    1.3.1 层状C_2N和C_3N晶体材料第13-14页
    1.3.2 melon结构的氮化碳材料第14-15页
    1.3.3 PTI结构的氮化碳材料第15-16页
    1.3.4 Covalent triazine frameworks第16-17页
    1.3.5 Nitrogen-doped graphene第17-18页
  1.4 氮化碳的制备方法和应用第18页
  1.5 本文研究思路第18-20页
第2章 液相剥离CN纳米片及SPM等表面研究第20-40页
  2.1 研究背景第20-23页
    2.1.1 热剥离法第21页
    2.1.2 液相剥离法第21-23页
  2.2 实验研究过程第23-25页
    2.2.1 试剂与仪器第23页
    2.2.2 实验过程第23-25页
  2.3 实验结果分析第25-38页
    2.3.1 热聚合法制备体相CN第25-27页
    2.3.2 液相剥离法制备CN纳米片第27-32页
    2.3.3 AFM研究不同衬底上的CN纳米片第32-36页
    2.3.4 STM研究液相剥离的氮化碳第36-38页
  2.4 本章小结第38-40页
第3章 CVD法在Cu箔表面制备氮化碳薄膜第40-58页
  3.1 研究背景第40-45页
    3.1.1 氮掺杂石墨烯研究进展第42-43页
    3.1.2 CVD法生长氮掺杂石墨烯薄膜第43-44页
    3.1.3 氮掺杂石墨烯与石墨相氮化碳的联系第44-45页
  3.2 实验研究过程第45-47页
    3.2.1 实验材料第45页
    3.2.2 测试仪器第45页
    3.2.3 实验过程第45-47页
  3.3 实验结果分析第47-56页
    3.3.1 Cu foils未退火生长第47-50页
    3.3.2 Cu foils退火后非连续生长第50-51页
    3.3.3 Cu foils退火后连续生长第51-54页
    3.3.4 温度和压力对薄膜生长的影响第54-56页
  3.4 本章小结第56-58页
第4章 预结晶法制备高晶化度氮化碳第58-70页
  4.1 研究背景第58-61页
    4.1.1 melon结构氮化碳材料第58页
    4.1.2 盐酸化处理得到晶体材料第58-60页
    4.1.3 实验设计思路第60-61页
  4.2 实验研究过程第61-62页
    4.2.1 实验试剂第61页
    4.2.2 实验仪器第61页
    4.2.3 实验过程第61-62页
  4.3 实验结果分析第62-68页
    4.3.1 melamine-HCl退火结果第62-66页
    4.3.2 melon-HCl退火结果第66-67页
    4.3.3 真空固相反应第67-68页
  4.4 本章小结第68-70页
参考文献第70-80页
致谢第80-82页
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果第82页

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