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氮化碳等含氮碳材料的制备与表面性质研究
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氮化碳等含氮碳材料的制备与表面性质研究
论文目录
摘要
第5-6页
Abstract
第6-10页
第1章 氮化碳的研究背景
第10-20页
1.1 有关氮化碳的历史
第10-12页
1.2 石墨相氮化碳的结构和性质
第12-13页
1.3 其他主要含碳、氮的材料
第13-18页
1.3.1 层状C_2N和C_3N晶体材料
第13-14页
1.3.2 melon结构的氮化碳材料
第14-15页
1.3.3 PTI结构的氮化碳材料
第15-16页
1.3.4 Covalent triazine frameworks
第16-17页
1.3.5 Nitrogen-doped graphene
第17-18页
1.4 氮化碳的制备方法和应用
第18页
1.5 本文研究思路
第18-20页
第2章 液相剥离CN纳米片及SPM等表面研究
第20-40页
2.1 研究背景
第20-23页
2.1.1 热剥离法
第21页
2.1.2 液相剥离法
第21-23页
2.2 实验研究过程
第23-25页
2.2.1 试剂与仪器
第23页
2.2.2 实验过程
第23-25页
2.3 实验结果分析
第25-38页
2.3.1 热聚合法制备体相CN
第25-27页
2.3.2 液相剥离法制备CN纳米片
第27-32页
2.3.3 AFM研究不同衬底上的CN纳米片
第32-36页
2.3.4 STM研究液相剥离的氮化碳
第36-38页
2.4 本章小结
第38-40页
第3章 CVD法在Cu箔表面制备氮化碳薄膜
第40-58页
3.1 研究背景
第40-45页
3.1.1 氮掺杂石墨烯研究进展
第42-43页
3.1.2 CVD法生长氮掺杂石墨烯薄膜
第43-44页
3.1.3 氮掺杂石墨烯与石墨相氮化碳的联系
第44-45页
3.2 实验研究过程
第45-47页
3.2.1 实验材料
第45页
3.2.2 测试仪器
第45页
3.2.3 实验过程
第45-47页
3.3 实验结果分析
第47-56页
3.3.1 Cu foils未退火生长
第47-50页
3.3.2 Cu foils退火后非连续生长
第50-51页
3.3.3 Cu foils退火后连续生长
第51-54页
3.3.4 温度和压力对薄膜生长的影响
第54-56页
3.4 本章小结
第56-58页
第4章 预结晶法制备高晶化度氮化碳
第58-70页
4.1 研究背景
第58-61页
4.1.1 melon结构氮化碳材料
第58页
4.1.2 盐酸化处理得到晶体材料
第58-60页
4.1.3 实验设计思路
第60-61页
4.2 实验研究过程
第61-62页
4.2.1 实验试剂
第61页
4.2.2 实验仪器
第61页
4.2.3 实验过程
第61-62页
4.3 实验结果分析
第62-68页
4.3.1 melamine-HCl退火结果
第62-66页
4.3.2 melon-HCl退火结果
第66-67页
4.3.3 真空固相反应
第67-68页
4.4 本章小结
第68-70页
参考文献
第70-80页
致谢
第80-82页
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果
第82页
本篇论文共
82
页,
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。
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