论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| · 印染废水的分类及危害 | 第11-12页 |
| · 印染废水危害 | 第11页 |
| · 印染废水分类 | 第11-12页 |
| · 印染废水处理方法 | 第12-14页 |
| · 印染废水的回收利用 | 第12页 |
| · 印染废水的无害化处理 | 第12-14页 |
| · 半导体光催化技术 | 第14-17页 |
| · 半导体光催化的原理 | 第15-16页 |
| · 光催化活性的影响因素 | 第16-17页 |
| · 光催化技术的研究进展 | 第17页 |
| · 铋系催化剂 | 第17-20页 |
| · 钒酸铋 | 第18页 |
| · 卤氧化铋 | 第18-19页 |
| · 钨酸铋 | 第19页 |
| · 氧化铋 | 第19-20页 |
| · 铋系催化剂改性 | 第20-22页 |
| · 掺杂 | 第20-21页 |
| · 半导体复合 | 第21页 |
| · 表面光敏化 | 第21页 |
| · 表面贵金属沉积 | 第21-22页 |
| · 研究意义、内容 | 第22-23页 |
| · 研究意义 | 第22页 |
| · 研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验试剂及仪器 | 第23-25页 |
| · 实验试剂 | 第23-24页 |
| · 实验仪器 | 第24-25页 |
| 第三章 催化剂的制备及表征 | 第25-38页 |
| · 催化剂的制备 | 第25页 |
| · Bi_2O_3制备 | 第25页 |
| · ZnFe_2O_4制备 | 第25页 |
| · ZnFe_2O_4/Bi_2O_3制备 | 第25页 |
| · 催化剂的表征方法 | 第25-37页 |
| · 电子显微镜分析 | 第26-27页 |
| · 比表面积 | 第27页 |
| · 红外光谱（Infrared Spectroscopy，IR） | 第27-28页 |
| · X-射线粉末衍射（X-Ray Diffraction，XRD） | 第28-30页 |
| · X 射线光电子能谱（X-ray photoelectron spectroscopy， XPS） | 第30-34页 |
| · 紫外-可见漫反射光谱（UV-vis diffuse reflection spectra，UV/Vis-DRS） | 第34-36页 |
| · Bi_2O_3和 ZnFe_2O_4/Bi_2O_3可见光降解效率研究 | 第36-37页 |
| · 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 ZnFe_2O_4光敏化对 Bi_2O_3催化性能的影响研究 | 第38-43页 |
| · ZnFe_2O_4光敏化对催化降解性能的影响 | 第38-39页 |
| · 实验步骤 | 第38页 |
| · 结果与讨论 | 第38-39页 |
| · 初始浓度对 ZnFe_2O_4/Bi_2O_3降解性能的影响 | 第39-41页 |
| · 实验方法 | 第39页 |
| · 结果与讨论 | 第39-41页 |
| · 溶液 PH 对 ZnFe_2O_4/Bi_2O_3降解性能的影响 | 第41-42页 |
| · 实验步骤 | 第41页 |
| · 结果与讨论 | 第41-42页 |
| · 本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 ZnFe_2O_4/Bi_2O_3对甲基橙模拟印染废水的吸附性能研究 | 第43-50页 |
| · 不同反应条件对 ZnFe_2O_4/Bi_2O_3吸附效果的影响 | 第43-46页 |
| · 实验步骤 | 第43-44页 |
| · 结果与讨论 | 第44-46页 |
| · ZnFe_2O_4/Bi_2O_3吸附甲基橙模拟印染废水的动力学研究 | 第46-47页 |
| · 实验方法 | 第46页 |
| · 结果与讨论 | 第46-47页 |
| · ZnFe_2O_4/Bi_2O_3吸附甲基橙模拟印染废水的热力学研究 | 第47-49页 |
| · 实验方法 | 第47页 |
| · 结果与讨论 | 第47-49页 |
| · 结果与讨论 | 第49-50页 |
| 第六章 结论与建议 | 第50-52页 |
| · 结论 | 第50-51页 |
| · 建议 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 作者简介及在学期间科研成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
