论文目录 | |
| 摘要 | 第1-5
页 |
| Abstract | 第5-11
页 |
| 第一章 引言 | 第11-25
页 |
| 1．1 导电陶瓷 | 第12
页 |
| 1．2 导电现象 | 第12-14
页 |
| 1．3 La_0．5Sr_0．5CoO_3导电陶瓷及其应用 | 第14-15
页 |
| 1．4 脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第15-25
页 |
| 1．4．1 PLD法制备薄膜的设备及其特点 | 第16-18
页 |
| 1．4．1．1 PLD法制备薄膜的设备 | 第16-17
页 |
| 1．4．1．2 薄膜制备技术的特点 | 第17-18
页 |
| 1．4．2 PLD法薄膜制备技术的研究现状 | 第18-24
页 |
| 1．4．2．1 PLD法薄膜制备技术的理论研究 | 第18-21
页 |
| 1．4．2．2 工艺的研究进展 | 第21-22
页 |
| 1．4．2．3 PLD法制备薄膜新材料的研究进展 | 第22-24
页 |
| 1．4．3 PLD薄膜技术的发展趋势及应用前景 | 第24-25
页 |
| 第二章 PLD制备薄膜工艺与测温系统改进 | 第25-34
页 |
| 2．1 镀膜实验设备 | 第25-26
页 |
| 2．2 靶材 | 第26
页 |
| 2．3 镀膜工艺 | 第26-29
页 |
| 2．4 测温系统改进 | 第29-33
页 |
| 2．4．1 测温实验 | 第31
页 |
| 2．4．2 实验结果和讨论 | 第31-33
页 |
| 2．5 膜厚测量 | 第33
页 |
| 2．6 电阻测量 | 第33-34
页 |
| 第三章 Si衬底上制备 LSCO薄膜及性质研究 | 第34-41
页 |
| 3．1 薄膜XRD分析 | 第34
页 |
| 3．2 生长温度对电阻率的影响 | 第34-35
页 |
| 3．3 后退火对电阻率的影响 | 第35-39
页 |
| 3．3．1 空气中后退火 | 第35-37
页 |
| 3．3．2 充氧条件下后退火 | 第37-39
页 |
| 3．4 薄膜的表面形貌 | 第39-40
页 |
| 3．5 小结与讨论 | 第40-41
页 |
| 第四章 SiO_2/Si衬底上制备 LSCO薄膜及性质研究 | 第41-50
页 |
| 4．1 薄膜XRD分析 | 第41-42
页 |
| 4．2 生长温度对电阻率的影响 | 第42-43
页 |
| 4．3 镀膜氧压对电阻率的影响 | 第43
页 |
| 4．4 退火工艺对表面形貌影响 | 第43-46
页 |
| 4．4．1 表面裂纹及消除 | 第43-45
页 |
| 4．4．2 表面大颗粒 | 第45-46
页 |
| 4．5 原位退火对电阻率的影响 | 第46-47
页 |
| 4．5．1 退火氧压的影响 | 第46-47
页 |
| 4．5．2 退火时间的影响 | 第47
页 |
| 4．6 放置时间对电阻率的影响 | 第47-48
页 |
| 4．7 小结和讨论 | 第48-50
页 |
| 第五章 Pt/Ti/SiO_2/Si、LaAlO_3衬底上制备 LSCO薄膜及性质研究 | 第50-57
页 |
| 5．1 Pt/Ti/SiO_2/Si衬底上制备LSCO薄膜及性质研究 | 第50-53
页 |
| 5．1．1 薄膜XRD分析 | 第50-51
页 |
| 5．1．2 生长温度对电阻率的影响 | 第51
页 |
| 5．1．3 薄膜的表面形貌 | 第51-53
页 |
| 5．1．4 小结 | 第53
页 |
| 5．2 LaAlO_3衬底上制备LSCO薄膜及性质研究 | 第53-57
页 |
| 5．2．1 薄膜 XRD分析 | 第54-55
页 |
| 5．2．2 薄膜的表面形貌 | 第55
页 |
| 5．2．3 薄膜的电阻率 | 第55
页 |
| 5．2．4 小结和讨论 | 第55-57
页 |
| 第六章 不同衬底生长 LSCO薄膜性质比较 | 第57-60
页 |
| 6．1 薄膜结构 | 第57-58
页 |
| 6．2 电阻率 | 第58
页 |
| 6．3 表面形貌 | 第58-60
页 |
| 第七章 激光感生热电电压(LITV)效应研究 | 第60-74
页 |
| 7．1 感生热电电压(LITV)概述 | 第60-64
页 |
| 7．1．1 LITV信号的发现和其理论的发展 | 第60-62
页 |
| 7．1．2 LITV公式 | 第62-63
页 |
| 7．1．3 LITV效应的应用 | 第63-64
页 |
| 7．2 LSCO薄膜的 LITV效应研究 | 第64-73
页 |
| 7．2．1 LITV信号测量系统 | 第64-65
页 |
| 7．2．2 La_0．5Sr_0．5CoO_3薄膜LITV信号测量 | 第65-70
页 |
| 7．2．2．1 不同倾斜角度LAO衬底 LITV | 第65-66
页 |
| 7．2．2．2 激光能量-峰值电压关系 | 第66-70
页 |
| 7．2．2．3 快响应时间 | 第70
页 |
| 7．2．3 不同配比La_(1-x)Sr_xCoO_3(x=0．1,0．3,0．5,0．6)薄膜LITV | 第70-73
页 |
| 7．2．3．1 靶材制备 | 第70-71
页 |
| 7．2．3．2 LITV测量 | 第71-73
页 |
| 7．3 小结 | 第73-74
页 |
| 结论 | 第74-76
页 |
| 致谢 | 第76-77
页 |
| 参考文献 | 第77-82
页 |
| 附录 攻读学位期间发表的论文及获奖情况 | 第82
页 |
