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控制光学元件超光滑表面粗糙度的研究
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控制光学元件超光滑表面粗糙度的研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
Abstract第4-8 页
第一章：绪论第8-19 页
　　· ICF课题提出的背景第8-9 页
　　· 惯性约束核聚变(ICF)的国内外发展现状第9-10 页
　　· 超光滑表面的主要特点和其它应用第10-11 页
　　· 超精密抛光技术总结第11-15 页
　　· 国内对大口径超光滑元件的研究现状第15-16 页
　　· 本论文的主要研究内容第16 页
　　参考文献第16-19 页
第二章：ICF系统所用光学元件的技术指标和测量第19-32 页
　　· 强激光系统对超精密光学表面的技术要求第19-22 页
　　　　· 光学元件制造误差对ICF光学系统的影响第19-21 页
　　　　· ICF系统对光学元件的要求第21-22 页
　　· ICF系统所用超光滑光学元件的测试第22-29 页
　　　　· 对大口径光学元件面形的测量第22-23 页
　　　　· 对超光滑光学表面粗糙度的测量第23-25 页
　　　　· 典型超光滑光学元件的测试结果第25-29 页
　　· 现有加工技术的差距第29-30 页
　　· 本章小结第30 页
　　参考文献第30-32 页
第三章：抛光液的pH值改进实验第32-45 页
　　· 引言第32-33 页
　　· 传统抛光过程中抛光工艺参量的控制第33-36 页
　　· 抛光液的pH值对抛光质量影响的理论分析第36-38 页
　　　　· 水对玻璃表面的水解作用第37-38 页
　　　　· 抛光液体的pH值对抛光液分散性的影响第38 页
　　· 抛光液的pH值对抛光质量影响的实验研究第38-42 页
　　　　· 实验设备与测量方法第38-40 页
　　　　· 实验现象和结果第40-42 页
　　· 抛光液的pH值对抛光质量影响实验结果的理论分析第42-43 页
　　　　· 抛光液对玻璃的腐蚀作用第42 页
　　　　· 抛光液胶体分散性对玻璃表面粗糙度的影响第42-43 页
　　· 本章结论第43 页
　　参考文献第43-45 页
第四章：抛光粉的参量改进实验第45-54 页
　　· 引言第45-46 页
　　　　· 抛光粉粒度对抛光质量的影响第45-46 页
　　　　· 抛光粉的晶粒对抛光质量的影响第46 页
　　　　· 抛光粉的抗破碎强度和形状对抛光质量第46 页
　　· 抛光过程中抛光粉参量的变化规律第46-51 页
　　　　· 实验参量的测量第46 页
　　　　· 抛光粉的粒度分布和平均晶粒随抛光时间的变化规律第46-49 页
　　　　· 抛光粉的颗粒形貌随抛光时间的变化第49-51 页
　　· 抛光周期和阶段的划分第51-52 页
　　　　· 抛光周期的划分根据第51 页
　　　　· 抛光周期中各个阶段对抛光质量的影响第51-52 页
　　· 本章小结第52-53 页
　　参考文献第53-54 页
第六章 总结第54-55 页
附录第55-57 页
致谢第57 页

本篇论文共57页，点击这进入下载页面。
 
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